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晶圆测温系统,TC Wafer热电偶
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晶圆测温系统,TC Wafer热电偶

发布时间:2023-10-26 10:32:04

晶圆测温仪,晶圆测温系统,TC Wafer热电偶

晶圆测温仪是一种用于测量半导体晶圆表面温度的仪器。它在半导体制造过程中起着至关重要的作用,可以帮助工程师监测和控制晶圆的温度,确保制造过程的稳定性和可靠性。

晶圆测温仪的原理基于热电效应,通过测量晶圆表面的热电势差来推导出温度信息。晶圆测温仪通常由温度传感器、信号处理器和显示器等组成。温度传感器可以是热电偶、热敏电阻或热电阻等,它们与晶圆表面接触,将表面温度转换为电信号。信号处理器对传感器输出的电信号进行放大、滤波和线性化处理,终将温度数据传递给显示器进行显示和记录。

晶圆测温仪具有许多优点。,它可以实时、准确地测量晶圆表面温度,帮助工程师了解晶圆制造过程中的温度变化情况。其次,晶圆测温仪可以帮助工程师及时发现温度异常,及时采取措施进行调整和修正,以产品质量和制造效率。此外,晶圆测温仪还可以提供数据记录和分析功能,帮助工程师进行数据统计和趋势分析,以优化制造过程和提高生产效率。

晶圆测温仪在半导体制造过程中有广泛的应用。,在晶圆生长过程中,晶圆测温仪可以帮助工程师监测晶圆的生长温度,以控制晶体生长速度和晶体结构的质量。其次,在晶圆切割和研磨过程中,晶圆测温仪可以帮助工程师控制切割和研磨工具的温度,以避免过热和过冷对晶圆的损伤。此外,在晶圆的薄膜沉积和光刻过程中,晶圆测温仪可以帮助工程师控制温度分布和均匀性,以薄膜和光刻图案的质量。

晶圆测温仪是半导体制造过程中不可或缺的工具之一。它通过准确测量晶圆表面温度,帮助工程师监测和控制制造过程中的温度变化,以确保产品质量和制造效率。随着半导体工艺的不断发展,晶圆测温仪将继续发挥重要作用,并不断提高测温精度和稳定性,以满足制造过程对温度控制的更高要求。



测温范围:-50至1200℃

热电偶类型:K型

精度:±0.5℃±0.1%读数

线径:0.127、0.254mm

测温点数:1~68个

传感器引线:可定制

工艺:焊接设计

绝缘材料:石英、Teflon、二氧化硅、陶瓷、PA

测温探头接口:DB37、微型插座

晶圆材质:硅片,蓝宝石,碳化硅等(基材形状和尺寸可定制)

晶圆尺寸:50mm,100mm,150mm,200mm,300mm

真空贯通带:聚酰亚胺扁平电缆,大气压可达10-7Torr(长度由客户***)

搭配我们的软件可以准确收集和分析晶圆的温度数据,并可提供多点温度测量,用图表将温度分布及变化数据可视化,提供硬件和软件嵌入式解决方案,可以测量任何尺寸的晶圆和多达68通道的热电偶输入。

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